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Title: Efecto del silicio foliar en el rendimiento y poscosecha en coliflor (Brassica oleracea var. Botrytis) en condiciones de Yanahuanca – Pasco
Authors: Sarmiento Mendoza, Yuli Beatriz
Sarmiento Mendoza, Jesus Alberto
Advisors: Inga Ortiz, Josué Hernán
Keywords: coliflor;silicio foliar;senescencia;precocidad
Issue Date: 26-Sep-2024
Publisher: Universidad Nacional Daniel Alcides Carrión
Abstract: La presente investigación tuvo como objetivo Determinar el efecto del silicio foliar en el rendimiento y poscosecha en coliflor (Brassica oleracea Var Botrytis) en condiciones de Yanahuanca -Pasco, se estudió el efecto del silicio (Silikon ®) en la variedad snowball de coliflor, se usó el diseño de bloques completos al azar con cinco tratamientos en tres bloques, realizado el procesamiento de datos se obtuvo los siguientes resultados: las características agronómicas de las plantas de coliflor con el uso de silicio foliar se obtuvo más del 96 % de prendimiento, el tratamiento T4 formó 22.67 hojas también logró 27.47 cm de diámetro de cabeza, el tratamiento sin silicio formó 7 centímetros menos. La precocidad del cultivo de coliflor con el uso de silicio foliar, se observa que el tratamiento T4 a los 86 días ya empieza a formar las pellas, el tratamiento sin silicio tardó mayor tiempo en madurar, con 119 días, los mejores tratamientos fueron T3 y T4 con maduraron a los109 y 107 días respectivamente. El rendimiento del cultivo de coliflor con el uso de silicio foliar se incrementa, el T4 dosis alta de silicio foliar logró un peso de 2.49 kg, y los tratamientos T1 y T5 que presentan dosis baja y testigo lograron menor peso con 1.66 y 1.61 kg de peso de cabeza respectivamente, el tratamiento T4 de dosis alta de silicio foliar consiguió mejores rendimientos con 67.67 t/ha el menor rendimiento lo obtuvo el T5 testigo o control que logra rendimiento de 46 t/ha. La senescencia de las pellas después de la cosecha con el uso de silicio mejora, el T4 presenta mayor duración con 14 días, el T1 y T5 con 10 y 8 días respectivamente.
URI: http://repositorio.undac.edu.pe/handle/undac/4778
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